- ピックアップ：
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- 有機スルホン酸スズめっき液。
半光沢のスズめっき皮膜が得られる。
- スズめっき
- 銅合金, 金属全般, 不導体, プリント配線板
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- 析出皮膜は耐食性、耐薬品性、耐変色性に優れている。
低膜厚でも優れた耐食性が得られる。
めっき浴が老化しても皮膜応力の増加が少ない。
析出皮膜が曲げ特性に優れる。
析出皮膜のリン含有率が11〜12wt%と高い。
鉛化合物を使用していない。
- 連続補給タイプ
- 鉄鋼, アルミニウム合金, 銅合金
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- 銅、銅合金用の無電解スズめっき液。
銅、銅合金を浸漬することで耐食性のよい緻密なスズ皮膜が析出する。
- スズめっき
- 銅合金, 黄銅
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- 鉛フリー無電解ニッケル−鉄合金めっき液。
鉄含有率25wt%の均一組成のめっき皮膜が得られる。
低周波領域の電磁波シールド効果が得られる。
皮膜硬度Hv700、熱処理後はHv1050。
- バッチ使用タイプ
- 金属全般, 不導体, プラスチック全般
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- トップファルベCOBシリーズ用の浸漬黒色化処理剤。
トップファルベCOBめっき皮膜の黒味を大幅に増大させる。
- コバルト-リン-クロム合金めっき
- 金属全般, ABS, PC/ABS
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- 広い電流密度範囲にわたり、均一な光沢、レベリングが得られる。
展延性に優れ、後加工用やプリント配線板の下地ニッケルめっきなどに最適。
- 特殊添加剤
- 金属全般, 不導体, プリント配線板
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- コバルト-リン-クロム合金めっき皮膜が得られる。
めっき外観はスモーク色である。
トップファルベCOB-DIP2で処理することで黒色外観が得られる。
- コバルト-リン-クロム合金めっき
- ニッケル, 鉄鋼
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- 直径数ミクロンの多孔性構造を有する皮膜が形成される。
電流密度や連続使用時におけるポーラス形状の変化が少ない 。
めっき開始直後から多孔性皮膜が得られるため、短時間のめっきも可能。
- ポーラスニッケルめっき
- 金属全般, 不導体
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- 半光沢スズめっきおよび半光沢はんだめっき用の光沢剤。
電流範囲が広く、特に低電流密度部のつきまわりに優れる。
- 半光沢はんだ・半光沢スズめっき
- 金属全般, 不導体
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- めっき浴中の2価スズイオンの酸化防止剤。
4価スズイオンの生成を抑制する。
- 酸化防止剤
- 金属全般, 不導体
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- 真黒色のニッケル皮膜が得られる（L* 37, a* 0.2, b* 2.2）。
ラック、バレル、カゴ付けめっきなど幅広い用途で使用が可能。
- 黒色ニッケルめっき
- 金属全般, 不導体
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- リン含有率10〜12 wt%の電気ニッケル-リン合金めっき皮膜が得られる。
めっき皮膜は耐食性、耐薬品性、高い硬度で耐摩耗性に優れる。
浴安定性に優れ、長期連続使用が可能。
- 高耐食性用添加剤
- 金属全般, 不導体
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- 電気ニッケル-リン合金めっき皮膜が得られる。
電気ニッケルめっき皮膜と比べて耐食性、耐薬品性が優れる。
- 高耐食性用添加剤
- 金属全般, 不導体
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- 高硬度、高展延性のニッケルめっき添加剤。
- 高速ニッケルめっき光沢剤
- 金属全般, 不導体
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- 多孔性構造のニッケルめっき皮膜が得られる。
多孔性皮膜の孔径はおよそ1μm。
1cm2あたり約4000万の孔数が得られる。
- ポーラスニッケルめっき
- 金属全般, 不導体
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- 硫酸スズめっき用光沢剤。ラックおよびバレルめっきともに使用可能。
金属スズ濃度の幅が広いので光沢範囲が広い。
均一性、レベリング性、はんだ特性に優れる。
- スズめっき
- 金属全般, 不導体
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- バッチ式、鉛フリータイプ。
析出性に優れ、熱処理なしでも硬度の高い皮膜が得られる。
電子部品、セラミックスなどのめっきに最適。
- バッチ使用タイプ
- 金属全般, セラミック
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- トップケミアロイ66の鉛フリータイプ。
析出性に優れており、熱処理なしでも硬度の高い皮膜が得られる。
電子部品、セラミックスなどのめっきに最適。
皮膜中のホウ素含有率は1wt％未満、連続補給タイプ。
- 連続補給タイプ
- 金属全般, セラミック
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- 鉛化合物を使用していない。
析出速度の低下が少なく、10ターン以上の連続使用が可能である。
10ターン以降のめっき浴は冷却することで結晶物が生成するが、定期的に結晶物を除去することで20ターン程度まで長期使用が可能である。
析出皮膜は、光沢およびレベリングに優れている。
析出皮膜の内部応力は圧縮応力である。
鉄鋳物素材に対しても10ターン以上の長期使用が可能である。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 鉛化合物を使用していない。
析出皮膜の硬度は、熱処理なしで約Hv700と高い。
析出皮膜のリン含有率は1〜2wt%と低い。
析出皮膜の耐摩耗性が良好。
補給方式による長期使用が可能。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- SiCの共析に加え、リン含有率が1〜3wt％と低く、硬度が高い（Hv700〜750）。
析出皮膜は耐摩耗性に優れる。
熱処理により、さらに高硬度が得られる。
連続使用が可能で、2〜3ターンまで建浴時と同等な性能の皮膜が得られる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 浴の老化に伴う析出速度の低下がない長寿命、高速タイプの製品。
析出皮膜の光沢、レべリングが優れている。
析出皮膜の内部応力は圧縮応力である。
鉛化合物を使用していない。
冷却して生成する結晶物を除去することで、長期使用が可能。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 鉛化合物を使用していない。
PFOS、PFOA化合物を使用していない。
PTFE共析量 ：7〜13vol％
析出皮膜は摩擦係数が小さく、摺動性に優れる。
析出皮膜は非粘着性を示し、離型性、剥離性、撥水性、撥油性に優れる。
ディンプル（くぼみ）の少ない皮膜が得られる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 鉛化合物を使用していない。
PFOS、PFOA化合物を使用していない。
PTFE共析量 ：20〜26vol％
析出皮膜は摩擦係数が小さく、摺動性に優れる。
析出皮膜は非粘着性を示し、離型性、剥離性、撥水性、撥油性に優れる。
2〜3ターンまで析出速度、PTFE共析量が安定し、建浴時と同等な性能が得られる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 鉛化合物を使用していない。
PFOS、PFOA化合物を使用していない。
PTFE共析量：30〜40vol％
析出皮膜は摩擦係数が小さく、摺動性に優れる。
析出皮膜は非粘着性を示し、離型性、剥離性、撥水性、撥油性に優れる。
連続使用が可能で、1〜2ターンまで30 〜 40vol％のPTFE共析量が維持できる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- リン含有率が1〜3wt％と低く、PTFE共析量も約5vol％以下と低いため、硬度が高い
（Hv650〜700）。
鉛化合物を使用せず、PFOS・PFOA規制に対応。
析出皮膜は摩擦係数が小さく、摺動性に優れる。
析出皮膜は非粘着性を示し、離型性、剥離性、撥水性、撥油性に優れる。
連続使用が可能で、3ターンまでPTFE共析量が維持できる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 中リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
浴の老化にともなう析出速度の低下が少ない。
析出する皮膜は光沢、レベリングに優れている。
皮膜のリン含有量は6〜 9wt%である。
析出皮膜の内部応力は圧縮応力である。
鉛、水銀、カドミウム、6価クロム、ビスマスなどの重金属を含有していない。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 高リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
析出皮膜は耐薬品性、耐変色性に優れている。
皮膜のリン含有量は10wt%以上である。
析出皮膜の内部応力は圧縮応力である。
鉛、水銀、カドミウム、6価クロム、ビスマスなどの重金属を含有していない。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 低周波電磁波シールド特性に優れた鉄-ニッケル合金めっき皮膜が得られる
- 鉄-ニッケル合金めっき
- 金属全般
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- 析出皮膜の リン含有率が 6〜9wt％である。
硫黄化合物、 鉛化合物を使用していない （硫酸および硫酸塩は除く） 。
硫黄化合物を添加しためっき液の析出皮膜と比較して耐食性、耐薬品性、耐変色性が良好である。
硫黄化合物を使用していないため、析出速度の変動が少ない。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 摺動性に優れる電解ニッケル-PTFE複合めっき皮膜が得られる
（PTFE最大共析量：60vol%）
PFOA, PFOSフリー
ワット浴に添加するだけで容易に複合めっきができる
- 特殊添加剤
- 金属全般
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- PTFE共析量が30〜40vol%の超高共析タイプ無電解Ni-P/PTFE複合めっき液。
鉛化合物およびPFOS、PFOA化合物を使用していない。
析出皮膜は摺動性、離型性、撥水性に優れる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- PTFE共析量が23〜30vol%の高共析タイプ無電解Ni-P/PTFE複合めっき液。
鉛化合物およびPFOS、PFOA化合物を使用していない。
析出皮膜は摺動性、離型性、撥水性に優れる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- PTFE共析量が6〜13vol%の中共析タイプ無電解Ni-P/PTFE複合めっき液。
鉛化合物およびPFOS、PFOA化合物を使用していない。
析出皮膜は摺動性、離型性、撥水性に優れる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 光沢ニッケルめっき用添加剤。
一般的な光沢ニッケルめっき皮膜と比較して、ニッケル溶出が起こりにくい。
- 高耐食性用添加剤
- 金属全般
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- 析出速度が早く、浴の老化に伴う析出速度の低下が少ない。
析出皮膜は光沢、レべリングに優れる。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 鉛フリー無電解ニッケル-リンめっき液。
はんだ濡れ性に優れ、熱処理後においてもクラックが発生しにくい。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- つきまわり性が良好で、連続使用による速度や光沢の低下が少なく、作業性に優れた中リンタイプ。（P含有率：7〜9wt％）
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（連続補給タイプ）
- 金属全般
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- 連続使用による速度の低下が少なく、耐食性、耐変色性にも優れた中リンタイプ。（P含有率：8〜10wt％）
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（連続補給タイプ）
- 金属全般
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- 耐食性、耐薬品性、耐変色性、浴安定性に優れた高リンタイプ。（P含有率：10〜11wt％)
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（連続補給タイプ）
- 金属全般
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- 耐食性、耐薬品性、耐変色性に優れ、皮膜応力の増加が少ない高リンタイプ。（P含有率：11〜12wt％）
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（連続補給タイプ）
- 金属全般
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- 熱処理なしで高硬度が得られ、耐摩耗性に優れた低リンタイプ。
（P含有率：1〜2wt％）
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（連続補給タイプ）
- 金属全般
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- 鉛フリータイプの黒色用無電解ニッケルめっき液で、めっき皮膜は黒色化成処理により黒味の強い外観が得られる。
- 黒色無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- リン含有率が12〜13wt％と高く、耐食性、耐薬品性、磁気特性に優れ、非磁性皮膜、抵抗素子などに適している。（P含有率：12〜13wt％）
- 無電解ニッケル-リン系めっき液（バッチ使用タイプ）
- 金属全般
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- 光沢性、耐変色性、つきまわり性に優れる。
塩化ニッケルを使用しており、浴中のニッケル利用効率が高い。
（P含有率：8〜10wt％）
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（バッチ使用タイプ）
- 金属全般
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- 光沢性、耐変色性、汎用性に優れる。（P含有率：7〜9wt％）
- 鉛フリータイプ無電解ニッケル-リン系めっき液（バッチ使用タイプ）
- 金属全般
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- 高リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
非磁性タイプで、経時変化が少なく、平滑性、耐薬品性に優れる。
非磁性を必要とする部品や厚付けめっきに最適。
（P含有率：11〜12wt％）
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 中リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
光沢性、レベリング性に優れ、浴の老化に伴う光沢低下が少ない.
（P含有率：8〜10wt％）.
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- トップニコロンTOMの鉛フリータイプ。
つきまわり性が良好で、連続使用による速度や光沢の低下が少ない。
作業性に優れた中リンタイプ。
（P含有率：7〜9wt％）
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 中リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
連続使用による速度の低下が少なく、耐食性、耐変色性にも優れる。
（P含有率：6〜10wt％）
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 耐食性、耐薬品性、光沢性に優れた高リンタイプ。
（P含有率：10〜11wt％)
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- トップニコロンSA-98の鉛フリータイプ。
耐食性、耐薬品性、耐変色性、浴安定性に優れた高リンタイプ。
（P含有率：10〜11wt％)
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 耐食性、耐薬品性、耐変色性に優れた高リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
浴の老化にともなう皮膜応力の増加が少ない。
（P含有率：11〜12wt％）
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 低温（65〜75℃）使用の中低リンタイプの無電解ニッケルめっき液。
浴の老化にともなう析出速度の低下が少ない。
（P含有率：4〜7wt%）
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 低温（70〜80℃）使用の中低リンタイプの無電解Ni-Pめっき液。
浴の老化に伴う析出速度の低下が少ない（P含有率：5〜7wt%）。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- トップニコロンLPHの鉛フリータイプ。
低リンタイプ。
析出皮膜は熱処理なしで高硬度が得られ、耐磨耗性に優れる。
（P含有率：1〜2wt％）
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- コストパフォーマンスに優れ、速度、光沢性にも優れた中リンタイプ。
（P含有率：7〜10wt％)
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 低Ni濃度タイプの無電解Ni-Pめっき液で、建浴コストを低減できる。
耐食性、耐薬品性、耐変色性に優れる（P含有率：約11wt%）。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- アルミニウム合金上へのめっきに適した高光沢タイプ。
中リンタイプ（P含有率：7〜10wt％)。
- 連続補給タイプ
- 金属全般
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- 鉛フリータイプの炭化ケイ素複合無電解Ni-Pめっき液。
高硬度なめっき皮膜が得られ、耐摩耗性に優れる。
- 複合無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 鉛フリータイプで、黒色化処理により、黒味の強い外観が得られる。
- 黒色無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- 重金属フリータイプの黒色用無電解Ni-Pめっき液。
めっき皮膜は黒色化処理により、黒味の強い外観が得られる。
- 黒色無電解ニッケルめっき液
- 金属全般
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- サージェント浴に添加することで、電流効率と皮膜物性が向上する。
フッ化物フリータイプ。
クロム酸含有の補給液として、トップハードクロムHE-2Rを併用する。
- 硬質クロムめっき用添加剤
- 金属全般
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- リン含有率が12〜13wt％と高く、耐食性、耐薬品性、磁気特性に優れる。
非磁性皮膜、抵抗素子などに適している。
高リンタイプ。（P含有率：12〜13wt％）
- バッチ使用タイプ
- 金属全般
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- トップニコロンVS-Cの鉛フリータイプ。
塩化ニッケルを使用したバッチタイプ。光沢性、耐変色性、つきまわり性に優れる。
（P含有率：8〜10wt％）
- バッチ使用タイプ
- 金属全般
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- トップニコロンQ-2の鉛フリータイプ。
バッチ式、中リンタイプ。
光沢性、耐変色性、汎用性に優れる。（P含有率：7〜9wt％）
- バッチ使用タイプ
- 金属全般
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- ノーシアンタイプの鉄素材用ストライク銅めっき液。
- ストライク銅めっき液
- 鉄鋼
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- 半光沢のビスマスめっき皮膜が得られる。
- ビスマスめっき
- 銅合金
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- 原液使用タイプの置換スズめっき。
光沢のある薄いスズめっき皮膜が得られる。
- スズめっき
- 銅合金
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- フッ化物フリータイプの置換スズめっき。
- スズめっき
- 銅合金
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- ネオジム磁石上に密着性の良好な銅めっき皮膜が得られる。
アルカリ性で、ネオジム磁石材を侵食しにくい。
有害なシアン化合物を含有しない。
- ストライク銅めっき液
- ネオジム合金
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- ニッケル濃度やpH等の各種処理条件の管理値を設定することで、分析と補給を自動で行う。
USBポート搭載により、分析値を任意の時間間隔でUSBメモリに保存可能。
- 連続補給タイプ
